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溅射靶材制备工艺方法和特点
2023/9/28
溅射靶材的不同工艺方法及特点
1、粉末烧结法
一般热压、真空热压、热等静压等工艺会用到粉末烧结法。
（1）特点：这种制备工艺具有容易获得均匀细晶结构、节约原材料、生产效率高等特点。其关键在于需要选择高纯、超细粉末作为原料，选择可以实现快速致密化的成形烧结技术，从而保证靶材的低孔隙率，并控制晶粒度。在制备的过程中需严格控制杂质元素的引入。
（2）适合金属：适合W、Mo、Ru等难溶性金属和合金。
2、熔炼铸造法
一般真空感应熔炼、真空电弧熔炼、真空电子轰击熔炼等工艺会用到熔炼铸造法。
（1）特点：熔炼铸造法和粉末法相比，熔炼合金靶材的杂质含量，特别是气体杂质含量低，而且能高密度化、大型化，但是对于熔点和密度相差都很大的金属，熔炼法会难以获得成分均匀的合金靶材。
（2）适用金属：适合AI、Ti、Ni、Cu、Co、Ta、Ag、Pt等具有良好塑性的金属。
3、挤压工艺
一般热挤压、冷挤压、温挤压等都会用到挤压工艺。
（1）特点：主要用于制备塑性好的金属及合金旋转靶材。
（2）适用金属：适合AI、Cu、Zn等塑性好的金属。
4、等离子喷涂法
一般真空、水稳、气稳等离子喷涂等工艺都会用到等离子喷涂法。
（1）特点：可用于制备脆性金属及合金、陶瓷靶材等旋转靶材。
（2）适用金属：适合Cr、Si、氧化物等的旋转靶材。
1、粉末烧结法
一般热压、真空热压、热等静压等工艺会用到粉末烧结法。
（1）特点：这种制备工艺具有容易获得均匀细晶结构、节约原材料、生产效率高等特点。其关键在于需要选择高纯、超细粉末作为原料，选择可以实现快速致密化的成形烧结技术，从而保证靶材的低孔隙率，并控制晶粒度。在制备的过程中需严格控制杂质元素的引入。
（2）适合金属：适合W、Mo、Ru等难溶性金属和合金。
2、熔炼铸造法
一般真空感应熔炼、真空电弧熔炼、真空电子轰击熔炼等工艺会用到熔炼铸造法。
（1）特点：熔炼铸造法和粉末法相比，熔炼合金靶材的杂质含量，特别是气体杂质含量低，而且能高密度化、大型化，但是对于熔点和密度相差都很大的金属，熔炼法会难以获得成分均匀的合金靶材。
（2）适用金属：适合AI、Ti、Ni、Cu、Co、Ta、Ag、Pt等具有良好塑性的金属。
3、挤压工艺
一般热挤压、冷挤压、温挤压等都会用到挤压工艺。
（1）特点：主要用于制备塑性好的金属及合金旋转靶材。
（2）适用金属：适合AI、Cu、Zn等塑性好的金属。
4、等离子喷涂法
一般真空、水稳、气稳等离子喷涂等工艺都会用到等离子喷涂法。
（1）特点：可用于制备脆性金属及合金、陶瓷靶材等旋转靶材。
（2）适用金属：适合Cr、Si、氧化物等的旋转靶材。
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