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靶材的制备要求及选用原则
2023/9/28
一、靶材的制备要求
1、纯度
制备靶材要求材料的杂质含量低纯度高，靶材的纯度会对薄膜的均匀性产生影响，纯度越高，制作出来的靶材耐蚀性、电学和光学性能越好。但不同用途的靶材对纯度的要求也不同，比如说，在工业中使用的靶材对于纯度的要求就不太高；但半导体、显示器等领域的靶材对于纯度的要求还是比较高的。
2、高致密度
靶材一般要求要有较高的致密度，较高的致密度能够减少靶材中的气孔，提高薄膜的性能。而且靶材的致密度除了会影响在溅射时的沉积速度、溅射膜粒子的密度外，还会对靶材溅射薄膜的电学性能和光学性能产生影响。
靶材的致密性越好，它的导电性和导热性就越好，这样的靶材使用起来溅射功率小，成膜的速度也越快，制成的薄膜也不容易开裂，能够延长靶材的使用时间。
3、成分与组织结构均匀
靶材成分均匀会对镀膜质量产生影响，特别是对于复相结构的合金靶材与混合靶材。
4、晶粒尺寸
靶材的晶粒尺寸也会影响靶材的性能，靶材的晶粒尺寸越细小，溅射镀膜的厚度就会分布的更均匀，溅射的速度也就越快。
二、靶材的选用原则
1、靶材在镀膜成型后应该具备良好的机械强度和化学稳定性。
2、靶材需要选取与基体有着较好结合力的膜材，且与基体集合牢固，在溅射一层底膜之后才能进行所需模具的制备。
3、用作反应溅射成膜的膜材需要能够较为容易地与反应气体集合生成化合物膜。
4、在能够满足膜性能要求的前提下，靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好，这样能够减小溅射膜热应力的影响。
5、根据膜的用途和性能要求不同，选择使用的靶材的要求也不同，所选用的靶材需要能满足其纯度、杂质含量、组分均匀性、机械加工精度等要求。
1、纯度
制备靶材要求材料的杂质含量低纯度高，靶材的纯度会对薄膜的均匀性产生影响，纯度越高，制作出来的靶材耐蚀性、电学和光学性能越好。但不同用途的靶材对纯度的要求也不同，比如说，在工业中使用的靶材对于纯度的要求就不太高；但半导体、显示器等领域的靶材对于纯度的要求还是比较高的。
2、高致密度
靶材一般要求要有较高的致密度，较高的致密度能够减少靶材中的气孔，提高薄膜的性能。而且靶材的致密度除了会影响在溅射时的沉积速度、溅射膜粒子的密度外，还会对靶材溅射薄膜的电学性能和光学性能产生影响。
靶材的致密性越好，它的导电性和导热性就越好，这样的靶材使用起来溅射功率小，成膜的速度也越快，制成的薄膜也不容易开裂，能够延长靶材的使用时间。
3、成分与组织结构均匀
靶材成分均匀会对镀膜质量产生影响，特别是对于复相结构的合金靶材与混合靶材。
4、晶粒尺寸
靶材的晶粒尺寸也会影响靶材的性能，靶材的晶粒尺寸越细小，溅射镀膜的厚度就会分布的更均匀，溅射的速度也就越快。
二、靶材的选用原则
1、靶材在镀膜成型后应该具备良好的机械强度和化学稳定性。
2、靶材需要选取与基体有着较好结合力的膜材，且与基体集合牢固，在溅射一层底膜之后才能进行所需模具的制备。
3、用作反应溅射成膜的膜材需要能够较为容易地与反应气体集合生成化合物膜。
4、在能够满足膜性能要求的前提下，靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好，这样能够减小溅射膜热应力的影响。
5、根据膜的用途和性能要求不同，选择使用的靶材的要求也不同，所选用的靶材需要能满足其纯度、杂质含量、组分均匀性、机械加工精度等要求。
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